美国CVD公司长期从事CVD设备的研发及生产工作，拥有多年的成功经验，在世界范围内拥有广泛的客户群，包括众多财富500强中的半导体公司，著名学院和知名大学以及许多国家或私人实验室。

　

公司设备类型广泛，从小型的研究设备到多管生产设备皆有。我们既提供标准系统也提供自定义系统，标准的微控制系统功能强大，能够支持全部的CVD生产和大部分自定义系统的要求。控制系统支持全自动和手动双模式操作，数据自动存储，可同时显示温度、气流等数据的变化曲线，能够实现最复杂层面生长

　

公司不断追求技术革新，推出新产品，希望和世界范围内更多的客户沟通合作，共同发展。

　

主要产品系列
􀂉 Furnaces:
       • Carbon Nano Tube Growth
       • Diffusion
       • Oxidation
       • Annealing
       • Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD)
􀂉 Liquid Phase Epitaxial (LPE)
􀂉 Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)
􀂉 Vapor Phase Epitaxial Deposition (VPE)
􀂉 Rapid Thermal Processing (RTP)
􀂉 Silicon, Silicon/Germanium Epitaxial Deposition(UHVCVD)
􀂉 CZ Crystal Growing
􀂉 Exhaust Gas Conditioning