是一款自动控制的生产型氯化氢刻蚀设备，同时可以完成石墨底座的真空和非真空烘烤，可以去除III-V族沉积物，或完成沉积的准备工作。氢气和氯化氢可在最高1200摄氏度下工作。

　

所有密封Seals and O-Rings 采用Titon, Teflon和Kel-F材料

　

提供气体控制Mass Flow Controllers are provided for:：
 Nitrogen/Hydrogen mainline process gas line
 Nitrogen/Hydrogen purge gas line
 Hydrogen Chloride gas line Hydrogen Chloride Dilution gas line

　

　

配有氢气净化装置

　

温度控制：
+/- 1 degree closed loop control from 200 to1200 degrees Celsius.
+/- 1 摄氏度200 to1200 摄氏度

　

真空系统包括：
The system consists of:
• Air-Operated Valves to isolate the pump inlet line and atmospheric exhaust line 气阀控制
• An Inlet ParticulateTrap
• A 10 Torr and 1000 Torr Capacitance Manometer
• A Chemical Series Mechanical Vacuum Pump

　

全自动全手动模式选择，所有数据均有显示及闭环控制系统。

　

配有气体检测报警装置

　

详细资料请下载设备资料: