CVD公司3000系列液相外延反应设备拥有在III-V and II-VI 50mm wafer上进行外延生长的最理想的控制系统。 系统可靠稳定，生长条件控制精确，设备既能完成外延生长的自动重复性实验又可以进行大批量的生产任务。同时设备采用模块化设计，便于针对不同客户要求相应配置及后期升级，单管、多管及样品导入方向等等皆可由客户决定

　

　

• 迅速升温、多区域加热炉保持恒温区温差小于0.25摄氏度，1000摄氏度以上工作寿命长。通过控制加热炉的移动，能够给石墨舟迅速升降温。加热炉被安装在两个相同的滚轴上，由无反冲驱动系统、直流速度控制系统和微处理系统共同控制

　

• 多区域双循环微处理器控制反应温度，双循环指加热炉热偶及反应管内热偶双温度反馈系统。内热偶温度反馈系统能够使用户精确控制生长过程中石墨舟温度，温差小于+/-0.1摄氏度

　

• LPE线性激励石墨舟控制系统由步进电机和驱动控制器组成。能够将预设定电机步距、速度编入自动控制程序中，操作简单

　

• 高纯度的石英反应管和不锈钢End Cap及双重O型橡胶圈合并组装，保证重复生长过程中的密封和安全操作。反应前，将石墨舟放在石英Paddle上，然后由End Cap自动送进反应管中

　

• 清洁、密封、自动气流控制系统及气流控制器、Nupro 气动阀门、316L不锈钢管和气体压缩装置。在最后安装之前，必须清洗和钝化石英管以消除任何可能的污染。安装后，将对系统进行氦气泄露检测，达到1x10E-9 Atm. ss/sec标准

　

• 自动微处理控制系统，易于客户使用的操作界面，能够准确控制反应温度、气体流量，同时显示反应过程中温度及气流变化曲线。根据程序设定，顺序控制阀门、加热炉、真空泵及气体检测报警器，确保反应过程准确安全。过程数据自动存储，易于后期实验对比、程序改进和设备维修

　

• 氮气填充装置，填充氮气到Loadlock和手套箱中，在样品装卸载过程中，保证反应管及生长区域的洁净