关键字:
产品背景介绍
ABM光刻机应用实例
产品主要特性
曝光系统
卡盘掩膜工具
双面光刻装置
特殊装置
辅助设备
服务与支持
  凸点制作
  倒装焊设备
  ABM光刻机
  电子束蒸发台
  离心机
  划片机
  溅射台
  ICPIRE刻蚀
  键合台
  涂胶台
  HCL刻蚀设备
  PECVD气相沉积设备
  CVD系列产品
  纳米材料生长设备
  LPECVD设备

首页>ABM光刻机

ABM光刻机应用实例

               电子显微镜下 Feature Sizes:  0.6 近紫外微米线条
       Magnification:  800X                         Magnification:  3000X
 
                电子显微镜下 Feature Sizes:  0.6 近紫外微米线条
               
                          Magnification:  20000X
 
                 电子显微镜下 Feature Sizes:  0.25 近紫外微米线条
       Magnification:  2800X                         Magnification:  10000X
 
                     电子显微镜下 Feature Sizes:  25X25微米方形
      Magnification:  800X                         Magnification:  3000X
 
     电子显微镜下 Feature Sizes:  10X10微米方形,光刻胶高度50微米
           
                        Magnification:  1500X   
 
 SU-8多样图形                              电子显微镜下Feature Sizes: 15微米,
                                                      SU-8高度100微米         
    
  Magnification:  5000X                          Magnification:  500X  
 

详细信息请联系W.J.H.各地办事机构