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产品背景介绍
ABM光刻机应用实例
产品主要特性
曝光系统
卡盘掩膜工具
双面光刻装置
特殊装置
辅助设备
服务与支持
  凸点制作
  倒装焊设备
  ABM光刻机
  电子束蒸发台
  离心机
  划片机
  溅射台
  ICPIRE刻蚀
  键合台
  涂胶台
  HCL刻蚀设备
  PECVD气相沉积设备
  CVD系列产品
  纳米材料生长设备
  LPECVD设备

首页>ABM光刻机

产品背景介绍

    ABM公司成立于1986年,总部位于美国硅谷San Jose
主要经营光罩对准曝光机(光刻机),单独曝光系统,

光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

 

  截止到20051月,ABM公司在世界范围售出了300多台(光刻机)曝光机,50多台单独曝光系统。最著名的客户是美国NASAINTEL以及生产光刻胶的Shipley公司,ABM光刻机在台湾销量第一,超过半数的大学、研究所和部分工厂使用ABM的光刻机,ABM光刻机最主要的特点是机器具有极高的性价比。

 

    ABM总部位于美国硅谷,亚太销售服务、维修中心设于中国香港,公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。W.J.H.公司为ABM指定的中国独家代理商。

 

应用领域
   电子封装(晶片凸点和晶片级CSP)
   光电设备(LEDs,激光二极管,波导阵列)
   探测器  (CCD,近/远 红外,实时X射线)     
   MEMS 和MOEMS 设备显示器  (LCDs,聚合体LCD,OLED)

 
适用感光层 
适用与各种类型的光刻胶及Dry-film, BCB, Polyimide, SU-8
适用与G, H, I线及深紫外曝光
 
适用基材半导体材料
  Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCT,LiNbO3, 石英, 玻璃, 
  Flex, Rigid substrates (FR-4, BT-epoxy), Kapton, Metal

详细信息请联系W.J.H.各地办事机构