CVD公司和化学气相沉积设备

美国CVD Equipment公司（纳斯达克上市公司,代码：CVV）成立于1982年，总部位于纽约长岛。主要产品包括化学气相沉积（CVD），热处理设备，真空设备，特气柜，尾气处理设备等等。公司具有强大的开发，设计和生产能力，三十几年来为全球众多客户提供了数千套研发和生产设备，广泛用于医学功能材料，航天航空，纳米技术，半导体，太阳能等领域。
其子公司First Nano是世界领先的纳米材料设备制造商。
公司提供完整Turn-Key方案：气柜、主机、尾气处理设备。

 

Process Demo （工艺展示）
化学气相渗透多孔钽	铜箔上生长单层石墨烯	镍基上生长多层石墨烯
三维镍基上生长石墨烯	Mm级单层石墨烯	TMD过渡金属硫化物
垂直碳纳米管阵列	水平碳纳米管	批量氮化硅、氧化硅、多晶硅
垂直硅纳米线	氧化锌TCO（high haze）	三维结构上沉积氧化锌

 

CVD EQUIPMENT CORPORATION中国地区独家代理：美国汇杰国际公司